考夫曼射频离子源RFICP380用于铝表面溅射沉积ZrN薄膜

   日期:2021-01-13     浏览:0    评论:0    
核心提示:河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对ZrN薄膜色度的影响,采用KRI考夫曼射频离子源RFICP380辅助在铝表面溅射沉积ZrN
  河北某大学研究室为了研究磁控溅射时间和氮气流量对 ZrN 薄膜色度的影响采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 辅助在铝表面溅射沉积ZrN 薄膜

 

KRI 射频离子源 RFICP380 技术参数:

portant;">

射频离子源型号

portant;">

RFICP380

portant;">

Discharge 阳极

portant;">

射频 RFICP

portant;">

离子束流

portant;">

>1500 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

30 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦平行散射

portant;">

流量

portant;">

15-50 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

39 cm

portant;">

直径

portant;">

59 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

 

KRI 离子源的独特功能实现了更好的性能增强的可靠性和新颖的材料工艺. KRI 离子源已经获得了理想的薄膜和表面特性而这些特性在不使用 KRI 离子源技术的情况下是无法实现的.

 

试验结论:

随着磁控溅射时间的增长薄膜的亮度在减少黄蓝值在 3 min时出现最大值说明镀膜时间在 3 min 时最接近黄色红绿值波动比较大而氮气流量在 13~18 sccm 薄膜颜色呈金黄色.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵检漏仪质谱仪真空计美国 KRI 考夫曼离子源美国HVA 真空阀门美国 inTEST 高低温冲击测试机美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论请参考以下联络方式:

上海伯东罗先生                               台湾伯东王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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